電鍍廠淺談離子鍍膜的均勻性要求

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電鍍廠淺談離子鍍膜的均勻性要求

PVD真空涂層，離子涂層的均勻性和性能主要包括成分均勻、結構均勻、膜厚均勻，最終保證了膜的均勻性能。電鍍廠利用電解池原理在機械制品上沉積出附著良好的、但性能和基體材料不同的金屬覆層的技術。電鍍層比熱浸層均勻，一般都較薄，從幾個微米到幾十微米不等。通過電鍍，可以在機械制品上獲得裝飾保護性和各種功能性的表面層，還可以修復磨損和加工失誤的工件。電鍍利用電解原理在某些金屬表面上鍍上一薄層其它金屬或合金的過程，是利用電解作用使金屬或其它材料制件的表面附著一層金屬膜的工藝從而起到防止金屬氧化（如銹蝕），提高耐磨性、導電性、反光性、抗腐蝕性（硫酸銅等）及增進美觀等作用。不少硬幣的外層亦為電鍍。 材料的性能取決于其誠意和結構。 膜層必須獲得所設計的膜系統的均勻組成和結構。 膜是二維材料，膜的厚度是重要的材料技術指標.. 例如，薄膜的干涉顏色、耐蝕性和耐磨性與薄膜厚度、薄膜厚度均勻性密切相關，以保證薄膜相關性能均勻。

從涂布材料，或從蒸發源和濺射靶和反應氣體來源材料的離子鍍膜層組合物。這些物種和沉積物的比例，對穩定沉積過程的供給。

離子鍍膜膜層的組織管理結構設計除了決定于沉積物料的成分外，還取決于沉積粒子的能量、粒子入射角度和基體表面溫度等，在沉積形成過程中可以要求學生保持高度一致。

涂層的厚度取決于沉積物的總量，當然，同樣的密度是前提。